zjeeraar schreef op 8 maart 2025 17:36:
[...]
Imec deelt eerste yield resultaten met ASML's nieuwe high-NA-euv-machines
Imec heeft de eerste yield resultaten met ASML's high-NA-euv-machines gepubliceerd.
Die machines worden in de komende jaren gebruikt voor de nieuwste chipproductieprocessen van bedrijven als Intel. Imec noteerde een 'elektrische yield' van ruim 90 procent op een enkele laag.
Belgische onderzoeksinstelling Imec voerde onlangs 'elektrische tests' met een high-NA-EUV-machine uit en presenteerde de resultaten daarvan tijdens een SPIE-lithografieconferentie in Californië.
Daarvoor werden structuren met metalen lijntjes afgebeeld met een onderlinge afstand van 20 nanometer. Daarna werd bekeken welk percentage daarvan functioneel was.
Imec printte twee verschillende soorten structuren met een high-NA-machine.
Er werden meander-structuren afgebeeld, die aangeven of metalen lijntjes ergens een breuk bevatten. Daarnaast werden ook fork-fork-structuren geprint.
Die worden gebruikt om na te gaan of nabijgelegen lijntjes onbedoeld contact met elkaar maken.
Dergelijke breuken en 'bruggen' zijn soorten 'stochastische defecten' die kunnen optreden tijdens het productieproces.
Ach de Chinezen doen ook hun best, echter ASML ligt nog mijlen ver voor......